该设备主要功能有：

　　1. 快速EEM三维光谱；同步吸收光谱；

　　2. 激发光谱、发射光谱、同步扫描光谱、光谱定量； 

　　3. 动态扫描，多波长对动态扫描；

　　4. 具备检测器后台算术运算功能。 

    其主要技术指标： 

　　1.  标准配置信噪比：＞30,000:1 ( RMS，5nm带宽，350nm激发水拉曼信噪比) 

　　2.  全反射聚焦光路 

　　  a)  光斑到聚焦狭缝，微小样品精确成像 

　　  b)  *具备直角反射样品仓反射镜2套，激发光到样品采用反射镜组聚焦，荧光采集采用反射镜组聚焦（固体和液体）； 

　　  c)  T型光学系统 

　　3.  光谱仪技术要求 

　　  a)  光谱分辨率（1800g/mm刻线光栅条件下）：0.04nm  

　　  b)  *光谱仪最小扫描步进：0.002nm 

　　  c)  *焦距≥320mm 

　  　d)  配置三块光栅，满足CCD检测器和R928P检测器的要求； 

　  　e)  三光栅塔轮双轴模式，保证每块光栅在轴扫描； 

　　4.  光源及分工： 

　　  a)  450W 氙灯，用于稳态光谱测量； 

　　5.  检测器： 

　　  a)  光子计数光电倍增管 

　    　1.  测试范围230-850nm； 

　　    2.  光子计数模式； 

　　  b)  CCD前照式开放电极面阵检测器 

　　    1.  测试范围200-1050nm 

　　    2.  CCD像素1024×256 

　　    3.  *像素尺寸：26um×26um 

　　    4.  制冷系统：-60℃ （25℃室温） 

　　    5.  暗电流：0.005 e^-/pixel/s 

　　    6.  配置光栅one-shot as：545nm；单像素光谱覆盖0.263nm； 

　　  c)  参比检测器 

　    　1.  230-1000nm； 

　    　2.  精选紫外增强光电二极管； 

　  　d)  吸收检测器 

    　　1.  230-1000nm； 

　    　2.  精选紫外增强光电二极管； 

　　6.  正面测量固体支架： 

　  　a)  360°旋转常量支架，用于薄膜、片材及粉末材料； 

    设备负责人：冯慕华